Crecimiento de estructuras de carbono mediante deposición química en fase de vapor a baja presión

Los alótropos de carbono han ganado interés en las últimas décadas debido a sus propiedades y a la gran variedad de posibles aplicaciones tecnológicas que han demostrado. Por dichas razones, la obtención de estos alótropos con diferentes propiedades y coberturas es ampliamente investigado. La Depos...

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Main Authors: Stephanie Mariela Varela-Fonseca, Camila Hernández-Murillo, Ernesto Montero-Zeledón, Dionisio Gutiérrez-Fallas, Roberto Urcuyo, Allen Puente-Urbina
Format: Article
Language:English
Published: Instituto Tecnológico de Costa Rica 2022-09-01
Series:Tecnología en Marcha
Subjects:
Online Access:https://172.20.14.50/index.php/tec_marcha/article/view/6067
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Summary:Los alótropos de carbono han ganado interés en las últimas décadas debido a sus propiedades y a la gran variedad de posibles aplicaciones tecnológicas que han demostrado. Por dichas razones, la obtención de estos alótropos con diferentes propiedades y coberturas es ampliamente investigado. La Deposición Química en Fase de Vapor (CVD, por sus siglas en inglés) es una de las técnicas más utilizadas para obtener este tipo de materiales con una alta calidad y cobertura en una forma controlada. En CVD, se utilizan metales de transición como catalizadores, fuentes de carbono gaseosas y altas temperaturas. En este reporte, se presentan estructuras de carbono sintetizadas sobre substratos de cobre utilizando Deposición Química en Fase de Vapor a Baja Presión (LPCVD, por sus siglas en inglés) con acetileno como fuente de carbono. Los sustratos de cobre se trataron térmicamente bajo una atmósfera reductora de hidrógeno-argón y luego se expusieron a acetileno, variando el flujo de acetileno y el tiempo de deposición. Los materiales resultantes se caracterizaron mediante Microscopía Óptica y Espectroscopia Raman. El enfoque seguido permitió determinar las mejores condiciones de síntesis de grafeno monocapa, de crecimiento irregular.
ISSN:0379-3982
2215-3241